東京ガスケミカルは、ＰＳＡ式ガス製造装置による酸素ガス供給に多くの実績を有しています。また、ピークシェイビング、バックアップ供給を含めた最適なシステムをご提案します。
吸着剤を充填した吸着塔に原料空気を供給して、非吸着のガス（酸素）を分離し製品ガスとして供給します。吸着剤に吸着されたガスは、吸着塔を減圧または真空減圧することにより、吸着ガス（酸素）や水分を脱着分離して吸着剤を再生します。
| ● | 時間使用量が500～5,000m3(NTP)のＰＳＡ装置をご用意しています。 |
| ● | 東京ガスケミカルにおけるオンサイトガス供給の歴史は、この酸素ＰＳＡ装置から始まり、既に３０年以上の実績があります。 |
| ● | 豊富な運転・メンテナンスのノウハウにより、お客さまのご要望に応じてご提案します。 |
| 基本仕様 | 製造能力 | |
| 500～5,000m3／h | ||
| 製品酸素ガス仕様 | 純度 | 90～93% |
| 圧力 | 0.99MPa以下 | |
| 露点 | -40℃以下 | |
| 必要ユーティリティ | 電力 | |
| 工水または冷却水、計装空気 | ||
| その他 | 屋外設置 | |
| 自動負荷運転 | ||
